• 4n placa alvo para gagueira Au Gold de alta pureza/Au Metal Alvo
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4n placa alvo para gagueira Au Gold de alta pureza/Au Metal Alvo

Application: Industrial
fórmula: ouro
classificação: Metal Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Membro de Ouro Desde 2023

Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
para ver todos os rótulos de força verificados (14)

Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-AU
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto


 
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal TargetO ouro é um dos metais monetários. O ouro é sólido à temperatura ambiente, tem alta densidade, suave, brilhante e resistente à corrosão. É o metal mais maleável. A sua ductilidade é apenas a segunda para a platina e é um dos metais mais maleáveis. O ouro é amplamente utilizado na indústria eletrônica, indústria química, indústria aeroespacial e indústrias tradicionais.

Os alvos de fretamento de ouro são utilizados em revestimentos standard de microscópio electrónico de varrimento (sem) e também são utilizados para cobrir amostras com uma camada fina de material condutor. Também pode ser utilizado para a circulação de semicondutores, displays, LEDs e dispositivos fotovoltaicos através de magnetrões, etc.
Podemos criar alvos Ni planos e alvos rotativos.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
Podemos também criar alvos em liga de ouro, tal como alvos de germânio de ouro e liga de estanho dourado.
A tabela de descrição e análise da composição do alvo de ouro de elevada pureza 4N, conforme se segue:
 
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material Ouro
Pureza 4N
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade 10,5 g/cm3
Ponto de fusão 1064ºC
Produza método ANCA

4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target

Nossa vantagem
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target


Processo de operação
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target

Imagem de embalagem
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target
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Aplicação:
4n High Purity Au Gold Sputtering Target Plate /Au Metal Target
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Produto relacionado
Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Liga Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Liga MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ANCA
Nota 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fundição
TA 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fundição
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 ANCA
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinterização
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinterização
GZO 3N5 CONFORME SOLICITADO 7.15 - - - Sinterização
IGZO 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Sinterização
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sinterização e aspersão

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6