alvos cerâmicos planos de 4 n Target Azo (ZnO:Al2O3)

• Application: Industrial
• fórmula: ZnO:Al2O3
• classificação: Ceranic Traget
• padrão de qualidade: grau industrial
• certificação: iso
• forma: Rotary,Flat,Round
• N ° de Modelo.: CYT-AZO
• Pacote de Transporte: Wooden Box
• Especificação: Customized Size
• Marca Registrada: CANYUAN
• Origem: China
• Capacidade de Produção: 1000PCS

Descrição de Produto

DESCRIÇÃO DO PRODUTO

O alvo AZO é uma meta de alumínio de óxido de zinco, composta principalmente por óxido de zinco dopado com óxido de alumínio, que é um material semicondutor do tipo N. A sinterização do alvo AZO é normalmente efectuada utilizando a sinterização da pressão atmosférica, a sinterização por prensagem a quente e a sinterização da atmosfera.

O método de sinterização mais comum é a sinterização da pressão atmosférica; os métodos de formação comuns incluem a prensagem a seco e a prensagem isostática a frio.

O alvo rotativo AZO é feito por processo de prensagem a frio e sinterização, e é ligado ao tubo traseiro. O tamanho pode ser personalizado de acordo com os requisitos do cliente.

O alvo planar AZO é feito usando o processo de sinterização por injecção de calda de cimento e é fundido na placa posterior. O tamanho pode ser personalizado de acordo com os requisitos do cliente.

Parâmetros técnicos

Pureza: 99.95%, 99.99%; resistividade (20C): ≤ 1x10Ω.cm.

Relação comum: ZnO: Al2O3: 98:2 (wt%).

Áreas de aplicação: Eléctrodos para células solares de película fina, vidro condutor transparente e películas flexíveis, ecrãs plasma, reflexão e protecção por infravermelhos e outros campos.

Podemos fazer PLANOS AZO e rotatórios sputtering alvos.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição do 4N AZO , a seguir apresentada:

Especificação de alvos
Aplicação	Materiais de entortamento de PVD
Material	AZO (ZnO: Al2O3)
Pureza	4N
Tamanho	personalizado
Espessura	personalizado
Forma	Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade	- g/cm3
Ponto de fusão	- ºC
Produza método	ANCA

Nossa vantagem

Processo de operação

Imagem de embalagem

Aplicação:

Produto relacionado

Material	Pureza (N)	Componentes (wt%)	Densidade	Derretimento  Ponto	Térmico Condutividade (WM-1K-1)	Coeficiente de  expansão (10-6k-1)	Produção  Processo
Liga Al	5N	-	2.7	660	235	23.1	Fundição
CR	3N5	-	7.22	1907	94	4.9	ANCA
Cu	4N	-	8.9	1084	400	16.5	Fundição
Liga MO	3N5	-	10.28	2623	139	4.8	ANCA
Nota	4N	-	8.6	2477	54	7.3	Fundição
TA	4N	-	16.7	3017	57	6.3	Fundição
Si	4N	-	2.33	1414	150	2.6	Sinterização e aspersão
TI	5N	-	4.5	1670	22	8.6	Fundição
W	4N	-	19.25	3422	174	4.5	ANCA
AZO	3N5	98:2	5.6	1975	22	1.5	Sinterização
ITO	4N	90:10	7.15	2000	15	2.0	Sinterização
GZO	3N5	CONFORME SOLICITADO	7.15	-	-	-	Sinterização
IGZO	4N	CONFORME SOLICITADO	-	-	-	-	Sinterização
NbOx	4N	-	4.6	1460	5	1.5	Sinterização e aspersão
TIOX	4N	-	4.23	1800	4	7.14	Sinterização e aspersão