• 6n alvos rotativos de cobre de alta pureza Cu
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6n alvos rotativos de cobre de alta pureza Cu

Aplicação: Industrial
fórmula: alumínio
classificação: Metal Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Fornecedores com licênças comerciais verificadas

Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-Cu
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto


 
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering TargetsO cobre é um metal brilhante roxo-vermelho com características ligeiramente duras, extremamente resistentes e resistentes ao desgaste, que tem boa ductilidade, boa condutividade térmica e desempenho de condutividade elétrica e resistência à corrosão. O cobre é muito abundante na natureza e fácil de processar que tem propriedades excelentes. Portanto, é amplamente utilizado em setores elétricos, de fabricação de máquinas, de construção, de transporte e outros.
Podemos produzir cobre de 3N a 6N alvos de elevada pureza após uma série de processamento com tamanho e forma específicos.
O teor de oxigénio do nosso objetivo pode ser inferior a 1 ppm.
Desde que o cobre de pureza ultra-elevada tem muitas propriedades excelentes, tem sido amplamente utilizado em eletrônica, comunicações, supercondutividade, aeroespacial, etc.
Podemos fazer alvos planos de cobre e alvos rotativos de entortamento.
Estes alvos podem ser utilizados como placas de apoio alvo.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição da coroa de cobre de elevada pureza 6N, tal como se segue:

  
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material Cobre
Pureza 6N
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade 8,96 g/cm3
Ponto de fusão 1083.4 ± 0.2ºC
Produza método ANCA

6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets

Nossa vantagem
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets


Processo de operação
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets

Imagem de embalagem
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets
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Aplicação:
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets
6n High Purity Cu Copper Rotary Sputtering Targets
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Al 3N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA, fundição
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Ni 3N5 - 4.5 1453 90 13 Fundição
TI 3N - 4.5 1668 15.2 9.4 Fundição
ZR 3N - 6.49 1852 0.227 - Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
AG 4N - 10.49 961.93 429 19 Fundição
C 4N - 2.23 3850 ± 50 151 - ANCA
Tial 3N5 CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
InSn 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
CrSi 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Pulverize
CRW 4N CONFORME SOLICITADO 16.7 3017 57 6.3 ANCA
NiCr 3N CONFORME SOLICITADO - - - - Fundição
WC 3N CONFORME SOLICITADO 15.77 2870 110 5.5 Sinterização e aspersão
NbOx 4N CONFORME SOLICITADO 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6