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Placa alvo/IR Iridiu de elevada pureza a 99.95% Iridiu Metal Target

Application: Industrial
fórmula: iridium
classificação: Metal Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-IR
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto


 
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
O irídio é branco como a platina, com um tom amarelado. O ridium é duro e frágil, o seu ponto de fusão é muito elevado, por isso é difícil de lançar e plastificar. Portanto, o processo de fabricação geralmente usa metalurgia de pó. O irídio é o único metal que ainda mantém excelentes propriedades mecânicas no ar acima dos 1600 ° C. Seu ponto de ebulição é extremamente alto, ranking 10º entre todos os elementos. A Iridium é um dos metais mais resistentes à corrosão. Pode suportar quase todos os ácidos, aqua regia, metal derretido, e mesmo silicatos em temperaturas elevadas.

Os alvos de pulverização de irídio são utilizados para deposição de película fina e são normalmente utilizados em células de combustível, decoração, semicondutores, visores, LED, e equipamento fotovoltaico, revestimento de vidro, etc..

Os materiais de irídio incluem fios de irídio, partículas de irídio, alvos de fretamento de irídio, etc.; a pureza e as especificações podem ser personalizadas. Outras formas de liga de alvos irídio incluem ródio irídio, ligas de platina irídio, etc.
A figura seguinte é uma tabela de análise da composição química da coroa de irídio de pureza elevada 3N5:

Outras aplicações de irídio:

1. Agente de endurecimento para ligas especiais;
2. A liga de ródio-irídio pode ser utilizada para termopares de alta temperatura;
3. A liga de irídio-tungsténio pode ser utilizada como materiais de mola de alta temperatura;
4. Cadinho de irídio, peças do instrumento, fios metálicos para instrumentos de vácuo a alta temperatura, contactos eléctricos, etc.;
5. Utilizados como catalisador para reacções como a hidrogenação, a desoxigenação e a oxidação;
6. As películas de irídio são utilizadas como películas de protecção ou contactos eléctricos de uso intensivo.
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material Iridium
Pureza 3N5
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade 21,45 g/cm3
Ponto de fusão 1772ºC
Produza método

99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target

Nossa vantagem
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
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Processo de operação
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
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Imagem de embalagem
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99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
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Aplicação:
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Liga Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Liga MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ANCA
Nota 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fundição
TA 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fundição
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 ANCA
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinterização
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinterização
GZO 3N5 CONFORME SOLICITADO 7.15 - - - Sinterização
IGZO 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Sinterização
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sinterização e aspersão
 

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6