• Alvos redondos de óxido de titânio com 99.99% de pureza
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Favoritos

Alvos redondos de óxido de titânio com 99.99% de pureza

Application: Industrial
fórmula: óxido de titânio
classificação: Ceramic Traget
padrão de qualidade: grau industrial
certificação: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Guangdong, China
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Informação Básica.

N ° de Modelo.
CYT-TIO2
Pacote de Transporte
Wooden Box
Especificação
Customized Size
Marca Registrada
CANYUAN
Origem
China
Capacidade de Produção
1000PCS

Descrição de Produto

Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
DESCRIÇÃO DO PRODUTO

O alvo rotativo de óxido de titânio é produzido através do processo de pulverização de plasma e o tamanho e a pureza podem ser personalizados de acordo com os requisitos do cliente.

O alvo planar de óxido de titânio é produzido através de processo de sinterização por prensa quente, geralmente ligado a placa de suporte de cobre para utilização, e o tamanho e a pureza também podem ser personalizados de acordo com os requisitos do cliente.

PARÂMETRO TÉCNICO

Pureza: 99.99 %; resistividade (20 ° C): ≤ 0.3Ω.cm.

Áreas de aplicação: Revestimento de vidro óptico, vidro REVESTIDO COM BAIXO-e, revestimento solar de película fina, revestimento de tela plana, revestimento decorativo.

Podemos fazer TIO2 plano e alvos rotativos de entivamento.
A especificação e a pureza podem ser personalizadas.
A tabela de descrição e análise da composição da 4N
TIO2
 , conforme se segue:
 Especificação de alvos  
Aplicação Materiais de entortamento de PVD
Material TIO2 (óxido de titânio)
Pureza 4N
Tamanho personalizado
Espessura personalizado
Forma Alvo de sputtering rotativo, tipo de anel, tipo de folha, tipo de Plat e tipo de tubo
Densidade - g/cm3
Ponto de fusão - ºC
Produza método ANCA

Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Nossa vantagem
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity


Processo de operação
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity

Imagem de embalagem
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity


Aplicação:
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
Titanium Oxide Round Targets with 99.99% Purity
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Material Pureza
(N)
Componentes
(wt%)
Densidade Derretimento
 Ponto
Térmico
Condutividade
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansão
(10-6k-1)
Produção
 Processo
Liga Al 5N - 2.7 660 235 23.1 Fundição
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ANCA
Cu 4N - 8.9 1084 400 16.5 Fundição
Liga MO 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ANCA
Nota 4N - 8.6 2477 54 7.3 Fundição
TA 4N - 16.7 3017 57 6.3 Fundição
Si 4N - 2.33 1414 150 2.6 Sinterização e aspersão
TI 5N - 4.5 1670 22 8.6 Fundição
W 4N - 19.25 3422 174 4.5 ANCA
AZO 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Sinterização
ITO 4N 90:10 7.15 2000 15 2.0 Sinterização
GZO 3N5 CONFORME SOLICITADO 7.15 - - - Sinterização
IGZO 4N CONFORME SOLICITADO - - - - Sinterização
NbOx 4N - 4.6 1460 5 1.5 Sinterização e aspersão
TIOX 4N - 4.23 1800 4 7.14 Sinterização e aspersão
 

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Fabricante / Fábrica
Produtos Principais
Sputtering Target
Número de Empregados
6