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Aplicação de fabrico de semicondutores utilização de gás de brometo de hidrogénio líquido (HBr)
Aplicação de fabrico de semicondutores utilização de gás de brometo de hidrogénio líquido (HBr)
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 10035-10-6
  • Fórmula: Hbr
  • EINECS: 233-113-0
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Cilindro HBR 99.999% 5n de elevada pureza brometo de hidrogénio de gás hidrbrometo de hidrogénio
Cilindro HBR 99.999% 5n de elevada pureza brometo de hidrogénio de gás hidrbrometo de hidrogénio
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 10035-10-6
  • Fórmula: Hbr
  • EINECS: 233-113-0
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Indústria de semicondutores indústria electrónica utilização C4f8 Octafluorocyclobutano
Indústria de semicondutores indústria electrónica utilização C4f8 Octafluorocyclobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Indústria de semicondutores processamento de Etching Plasma e processos de limpeza C4f8 Octafluorocyclobutane
Indústria de semicondutores processamento de Etching Plasma e processos de limpeza C4f8 Octafluorocyclobutane
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Processos de Etching plasma para cilindro de fabrico de semicondutores, gás C4f8 Octafluorociclobutano
Processos de Etching plasma para cilindro de fabrico de semicondutores, gás C4f8 Octafluorociclobutano
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Utilização de equipamento elétrico gás dielétrico elevada pureza C4f8 Octafluorociclobutância
Utilização de equipamento elétrico gás dielétrico elevada pureza C4f8 Octafluorociclobutância
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Equipamento eléctrico aplicação indústria semicondutores utilização cilindro gás C4f8 Octafluoroclobutano
Equipamento eléctrico aplicação indústria semicondutores utilização cilindro gás C4f8 Octafluoroclobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Sistemas elétricos a gás dielétrico aplicação de semicondutores de transferência de calor C4f8 Octafluoroclobutano
Sistemas elétricos a gás dielétrico aplicação de semicondutores de transferência de calor C4f8 Octafluoroclobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Aplicação da indústria de imagiologia por ressonância magnética (MRI) de semicondutores eletrónicos cilindro C4f8 Octafluorocíclico gasoso
Aplicação da indústria de imagiologia por ressonância magnética (MRI) de semicondutores eletrónicos cilindro C4f8 Octafluorocíclico gasoso
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Agentes de limpeza sistemas de refrigeração aplicação Semiconductor indústria utilização gás de cilindro C4f8 Octafluorocyclobutano
Agentes de limpeza sistemas de refrigeração aplicação Semiconductor indústria utilização gás de cilindro C4f8 Octafluorocyclobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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C4f8 sistemas de arrefecimento gás refrigerante semicondutores indústria eletrónica utilização Octafluorocobutano
C4f8 sistemas de arrefecimento gás refrigerante semicondutores indústria eletrónica utilização Octafluorocobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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C4f8 aplicações elétricas de semicondutores de gás de cilindro utilização Octafluorocobutano
C4f8 aplicações elétricas de semicondutores de gás de cilindro utilização Octafluorocobutano
Preço FOB: US$ 70,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Transferência de calor Equipamento elétrico médio garrafa dielétrica gás Octafluorociclobutance C4f8
Transferência de calor Equipamento elétrico médio garrafa dielétrica gás Octafluorociclobutance C4f8
Preço FOB: US$ 75,00-90,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 115-25-3
  • Fórmula: C4f8
  • EINECS: 204-075-2
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gás não inflamável
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Aplicações a laser utilização industrial de semicondutores Wf6 hexafluoreto de tungsténio
Aplicações a laser utilização industrial de semicondutores Wf6 hexafluoreto de tungsténio
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 7783-82-6
  • Fórmula: Wf6
  • EINECS: 232-029-1
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Depósito de vapor químico deposição de camada atómica utilização da indústria de semicondutores Wf6 Hexafluoreto de tungsténio
Depósito de vapor químico deposição de camada atómica utilização da indústria de semicondutores Wf6 Hexafluoreto de tungsténio
Preço FOB: US$ 250,00 / Kg
Quantidade Mínima: 15 Kg
  • CAS No.: 7783-82-6
  • Fórmula: Wf6
  • EINECS: 232-029-1
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Fabrico de Hídrico HF para electrónica HF
Fabrico de Hídrico HF para electrónica HF
Preço FOB: US$ 5,00 / kg
Quantidade Mínima: 1 kg
  • CAS No.: 7664-39-3
  • Fórmula: Hf
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Preço bom China refrigeração de pureza elevada C3H8 gás de cilindro Luquid Propano
Preço bom China refrigeração de pureza elevada C3H8 gás de cilindro Luquid Propano
Preço FOB: US$ 3,00 / Peça
Quantidade Mínima: 1 Peça
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Gas combustão de apoio
  • Product Name: Propane Gas
  • Cylinder Pressure: 12.5MPa/15MPa/20MPa
  • Melting Point: -187.6 ºC
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Aplicação da indústria Hexachlorodisilane, um precursor de silicone de elevada Purtiy
Aplicação da indústria Hexachlorodisilane, um precursor de silicone de elevada Purtiy
Quantidade Mínima: 50 Kg
  • CAS No.: 13465-77-5
  • Fórmula: Si2cl6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Inorganic Compound
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Aplicação da indústria de semicondutores Hcds Si2cl6 Hexachlorodisilane
Aplicação da indústria de semicondutores Hcds Si2cl6 Hexachlorodisilane
Quantidade Mínima: 50 Kg
  • CAS No.: 13465-77-5
  • Fórmula: Si2cl6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Mistura industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Inorganic Compound
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A indústria de semicondutores utiliza High Purtiy Si2cl6 Hexachlorodisilane
A indústria de semicondutores utiliza High Purtiy Si2cl6 Hexachlorodisilane
Preço FOB: US$ 3.000,00-5.000,00 / ...
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 13465-77-5
  • Fórmula: Si2cl6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Inorganic Compound
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Preço de fábrica produção de silicones fazendo chips de computador uso Si2cl6 Hcds Hexachlorodisilane
Preço de fábrica produção de silicones fazendo chips de computador uso Si2cl6 Hcds Hexachlorodisilane
Preço FOB: US$ 40,00 / Kg
Quantidade Mínima: 1 Kg
  • CAS No.: 13465-77-5
  • Fórmula: Si2cl6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Mistura industrial
  • Grade Padrão: Grau Industrial
  • Propriedade Chemical: Inorganic Compound
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Cilindro de aplicação para semicondutores Si2h6 Disilane
Cilindro de aplicação para semicondutores Si2h6 Disilane
Preço FOB: US$ 50.000,00 / L
Quantidade Mínima: 40 L
  • CAS No.: 1590-87-0
  • Fórmula: Si2h6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Processo CVD produção de semicondutores de origem de silicone utilização de gás cilindro Si2h6 Gás Disilane
Processo CVD produção de semicondutores de origem de silicone utilização de gás cilindro Si2h6 Gás Disilane
Preço FOB: US$ 50.000,00 / L
Quantidade Mínima: 40 L
  • CAS No.: 1590-87-0
  • Fórmula: Si2h6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Melhor preço fabrico fabrico semicondutores utilização cilindro gás Disilane
Melhor preço fabrico fabrico semicondutores utilização cilindro gás Disilane
Preço FOB: US$ 50.000,00 / L
Quantidade Mínima: 40 L
  • CAS No.: 1590-87-0
  • Fórmula: Si2h6
  • EINECS: 7783-82-6
  • Constituinte: Ar Puro industrial
  • Grade Padrão: Electronic Grade
  • Propriedade Chemical: Gases venenosos
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Shanghai Kemike Chemical Co.,Ltd

Shanghai, China

Última Data de Login: May 11, 2024

Tipo de Negócio: Fabricante / Fábrica

Produtos Principais: He/NE/ar/KR/XE, Sih4/Sicl4/Sihcl3/, CF4/SF6/C4f8/CHF3, ph3/Ash3, NH3/NF3/TMA/HBR

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